高耐磨化學(xué)復(fù)合鍍工藝
更新：2014/5/16 9:31:54??????點(diǎn)擊：
產(chǎn)品介紹
XMLS-EN/SiC是新型的復(fù)合無電解鎳-磷、碳化硅工藝。該工藝具有極佳的穩(wěn)定性。鍍層含SiC量5.0-9.0%（wt%）而沉積速度可高達(dá)20微米/小時。 XMLS-EN/SiC所提供的金屬陶瓷鍍層經(jīng)適當(dāng)?shù)臒崽幚砗?，硬度及耐磨性能，均能達(dá)到或超過硬鉻鍍層。
XMLS-EN/SiC鍍層的物理特性
SiC含量（wt%） 5.0-9.0 鍍層密度(g/cm3) 7.4-7.6
熔點(diǎn)（℃） 880-960 硬度 500-720HV
熱處理后（350℃1小時） 1000-1200HV
XMLS-EN/SiC特點(diǎn)
1. 較快的沉積速度14-20微米/小時。
2. 較穩(wěn)定的SiC含量，鍍層具有優(yōu)良的防腐和耐磨性能。
3. 極佳的穩(wěn)定性和超過6個周期的使用壽命。
4. 鍍液容易操作。
5. 較寬的鍍液負(fù)載范圍0.7-1.8。
設(shè)備要求
鍍 槽：建議使用PP鍍槽，最好采用子母槽（或上下槽）鍍槽在上，經(jīng)加溫和充分?jǐn)嚢杈鶆虻腻円河慑儾鄣撞肯蛏弦缌骰叵虏?，下槽為充分?jǐn)嚢瑁訙?，補(bǔ)充藥液槽。 加熱器：最好使用表面涂有聚四氟乙烯材料的加熱器，經(jīng)過鈍化處理的不銹鋼加熱器也可以使用。加熱時應(yīng)避免鍍液局部過熱。 過 濾：如連續(xù)過濾可采用50-100微米的過濾機(jī)；過濾機(jī)必須能耐90℃高溫。 攪 拌：最好使用機(jī)械方法進(jìn)行攪拌，以SiC粉均勻分散在鍍液中為準(zhǔn)，也可采用干凈無油的低壓空氣攪拌。過度的攪拌是有害的，另外鍍件在鍍槽中要做適當(dāng)移動。
鍍液配置
XMLS-EN/SiC A: 60ml/L XMLS-EN/SiC B: 150ml/L XMLS-EN/SiC P: 7g/L(5-8g/L) 蒸餾水或去離子水: 790ml/L 首先用蒸餾水或去離子水清洗鍍槽，加入約50%體積的蒸餾水或去離子水后，再加入所需數(shù)量的XMLS-EN/SiC A和XMLS-EN/SiC B，攪拌均勻后，用蒸餾水或去離子水補(bǔ)充到規(guī)定的體積，將鍍液加溫到約70℃，調(diào)整pH值4.60-4.65.調(diào)高pH值可采用50%的氨水或50%的碳酸鉀；調(diào)低pH 值可采用10%的硫酸。在充分?jǐn)嚢柘录尤胨璧腦MLS-EN/SiC P，在攪拌條件下，將鍍液加溫到84-86℃，再次檢查pH4.60-4.65，鍍液即可使用。（注意調(diào)整攪拌速度）。
操作條件
金屬鎳 5.0-6.2g/L(最佳5.8) pH 4.6-4.9 溫 度 84-88℃（最佳86℃） 鍍液負(fù)載 0.7-1.8dm2/L
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